硅电力电子器件钼片镀镍方法
【中钨在线新闻网-钨新闻】
本发明涉及一种硅电力电子器件钼片镀镇方法，其特征是：所述钼片放入滚筒内一起浸入 镀液中滚镀，镀液中含硫酸镍250g/L、氯化镇 50g/L、硼酸45g/L和硫酸镁20g/L ;镀液温度 40-55 °C, pH值为8-9，滚筒转速10-15转/分， 电镀电源阳极与电镀的金属镍板连接，阳极电流 80-90A,阴极引入滚筒内与钼片接触，电镀时间 40-60分钟;钼片一次镀镍后倒出滚筒用清水清 洗干净，然后烘干按常规放进通氢炉合金，退火后按上述方法重复进行第二次镀镍，再倒出钼片清 洗、烘干完成。所述钼片镀镍层厚度易控制，且操作方便，镀液可重复使用。
1. 一种硅电力电子器件钥片镀镍方法，其特征是：所述钥片放入滚筒内一起浸入镀液中滚镀，镀液中含硫酸镍250g/L、氯化镍50g/L、硼酸45g/L和硫酸镁20g/L ;镀液温度为 40-55°C, PH值为8-9，滚筒转速10-15转/分，电镀电源阳极与电镀的金属镍板连接，阳极 电流80-90A，阴极引入滚筒内与钥片接触，电镀时间40-60分钟;钥片一次镀镍后倒出滚筒用清水清洗干净，然后烘干按常规放进通氢炉合金，退火后按上述方法重复进行第二次镀 镍，再倒出钼片清洗、烘干完成。
2.根据权利要求1所述的一种硅电力电子器件钥片镀镍方法，其特征是：所述滚筒正 反两方向轮流转动。
免责声明：上文仅代表作者或发布者观点，与本站无关。本站并无义务对其原创性及内容加以证实。对本文全部或者部分内容(文字或图片)的真实性、完整性本站不作任何保证或承诺，请读者参考时自行核实相关内容。本站制作、转载、同意会员发布上述内容仅出于传递更多信息之目的，但不表明本站认可、同意或赞同其观点。上述内容仅供参考，不构成投资决策之建议；投资者据此操作，风险自担。如对上述内容有任何异议，请联系相关作者或与本站站长联系，本站将尽可能协助处理有关事宜。谢谢访问与合作！ 中钨在线采集制作.
|
