电化学抛光
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硫酸-磷酸-铬酸体系为电解液,对钼片进行电化学抛光。通过测定阴极极化曲线,研究了抛光过程中电压和电流之间的关系。表征了抛光前后钼片的微观形貌、粗糙度和尺寸等。在2.0 A/cm~2下对钼片电化学抛光30 s,可得到均匀平整、无明显坑点的表面,粗糙度由抛光前的0.20μm降至0.05μm。通过严格控制抛光时间可有效保证样品的几何尺寸精度。
金属钼具有良好的导热性和导电性,在高温下仍有很高的力学性能,因此钼材料在微电子技术、电真空技术、国防工业方面有着广泛应用。随着科学技术的发展,具有高表面质量的钼材料越来越受重视,但由于钼材料室温强度差、韧性差,采用传统机械抛光对其进行表面处理时容易产生。
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