CsxWO3의 화학식을 갖는 Cs 도핑된 텅스텐 산화물 나노 입자는 높은 근적외선 차폐 성능을 가진 건물 유리 단열 코팅의 생산을 위한 중요한 기능성 재료로 잘 알려져 있습니다. 전문가들에 따르면, Cs 도핑된 텅스텐 산화물 나노입자는 환원 분위기에서 800°C에서 합성될 수 있으며, 그 다음 고에너지 볼 플래너터리 밀링기에 의해 나노스케일까지 밀링될 수 있다. 제조된 나노입자는 단일상을 나타내었고 평균 입자크기는 80 nm였다.
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또한 전문가들은 CsxWO3 나노입자의 Cs 함량(x)을 x=0.32로 최적화해 파장 1200nm 부근에서 차폐 성능을 극대화했다고 밝혔다. 1200 nm의 파장보다 훨씬 낮은 흡수를 보상하기 위해 전문가들은 CsxWO3 나노 입자와 Sb가 도핑된 SnO2 나노 입자를 혼합했습니다. 따라서 그들은 540nm에서 70%의 가시광선 투과율과 1000nm에서 80%, 1400nm에서 94%의 근적외선 흡수를 달성했습니다. 한마디로, CsxWO3의 근적외선 차폐 성능은 Sb:SnO2 나노 입자와 혼합하여 향상되며, 이는 높은 열 차폐 성능을 갖는 건축용 유리 단열 코팅을 제조하기 위한 좋은 솔루션이 될 수 있습니다.
