三酸化タングステン、主に規則的なナノ構造ＷＯ ３は、ナノ材料の特性および優れた量子効果を有し、そしてエレクトロフォトクロミック、フォトクロミックおよび他のオプトエレクトロニクス特性において優れた特性を示し、そして例えば導電性ガラスに適用することができる。 FTO導電ガラス、ITO導電ガラス、ITO / PETフレキシブル導電基板、ガラスと金属からなる導電ガラス。
詳細については、にアクセスしてください。
http://tungsten-oxide.com/japanese/index.html
その中で、何人かの専門家は、ＦＴＯ導電性ガラス基板上に三酸化タングステン膜を調製する方法を提案した。具体的には、タングステン酸塩を水に溶解してタングステン酸塩溶液を形成し、得られたタングステン酸塩溶液を最初に大量の塩酸を添加することによって酸性化し、次いでタングステン酸塩の量はリンタングステン酸およびリンモリブデン酸の５〜３５％である。あるいは、ケイタングステン酸中の１種以上のヘテロポリ酸を、沈殿が生じなくなるまで撹拌して前駆体混合物を得る；シュウ酸アンモニウムを構造誘導剤として得られた前駆体混合物に添加し、次いで撹拌を０．５〜２時間続ける。 ＦＴＯ基板を備えた高圧反応器中で温度を１００〜１８０℃に制御し、反応は１〜２４時間であり、そして自然に室温まで冷却し、三酸化タングステン結晶を装填したＦＴＯ基板を取り出し、そしてマッフル炉中で４００〜６００℃で取り出した。 ０．５〜４時間の高温で焼成して、ＦＴＯ基板上に三酸化タングステン膜を得た。
