リチウムドープ酸化タングステンエレクトロクロミックフィルムは、リチウム源として過塩素酸リチウムをリチウムドープすることができ、ゾル - ゲル法における過酸化タングステン - 過酸化タングステン法によって調製される。専門家らは、リチウムをドープした後の三酸化タングステン薄膜の特性の変化を研究し、ドーピング量について議論した。
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http://tungsten-oxide.com/japanese/index.html
基板としてＩＴＯ導電性ガラスを用い、平方抵抗は１５Ωであり、２．５ｃｍ×２．５ｃｍの小片に切断した。フィルムのフィルム形成品質を保証するために、基材はコーティング前に厳密に洗浄されるべきである。基板を無水エタノール、アセトン、および脱イオン水で２０分間超音波洗浄し、最後に真空オーブンで乾燥し、使用のために密封した。
まず、タングステン粉末を秤量してビーカーに入れて過酸化水素と反応させ、密封して完全に反応させるために１０〜１５℃の環境に置き、濾過して沈殿物を除去し、得られた黄緑色の濾液に無水エタノールと酢酸を加える。反応を行い、得られた前駆体をマグネチックスターラーに２５分間入れた。最後に、過塩素酸リチウムとエチレングリコールメチルエーテルを添加し、さらに２５分間マグネチックスターラーで攪拌してゾルを調製した。塗布はホモジナイザーで行い、１層目をメッキした後、室温で自然乾燥させ、２層を繰り返しメッキした後、マッフル炉に入れて熱処理する。
