モリブデンをドープしたWO3エレクトロクロミックフィルムは、マグネトロンスパッタリングとスプレーを組み合わせて調製できます。それでは、マグネトロンスパッタリングとスプレーコーティングによってモリブデンをドープした酸化タングステンエレクトロクロミック膜を調製する具体的な手順を知っていますか？
詳細については、次をご覧ください。
http://tungsten-oxide.com/japanese/index.html
まず、FTO導電性ガラスを前処理する必要があります。
1.0 FTO導電性ガラスのクリーニング：面積5 x 2.5 cmの透明なFTO導電性ガラスを、それぞれドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム水溶液、超純水、エタノール、アセトンに入れ、20分間超音波処理してFTOの表面不純物を除去しました。窒素で乾燥させ、乾燥させます。
2.0 FTO導電性ガラスの表面活性処理：ステップ1.0で処理したFTO導電性ガラスをDT-01プラズマプロセッサに入れて、表面をプラズマ処理しました。
次に、モリブデンをドープした酸化タングステンエレクトロクロミックフィルムの調製をマグネトロンスパッタリングで行い、モリブデンをドープした酸化タングステンエレクトロクロミックフィルムの薄層をFTO導電性ガラスの表面にマグネトロンスプレーし、スパッタリング時間は、フィルムの厚さを制御するために使用されます。その中で、スパッタリング時間はそれぞれ2分、4分、6分でした。次に、酸化タングステンナノインクの層が、スプレーによるマグネトロンスパッタリングにより調製されたフィルム上にスプレーされる。
