モリブデンドープWO3大面積エレクトロクロミックガラス

モリブデン配合WO3大面積エレクトロクロミックガラスは現代建築の省エネの新しい解決策である。その中で、モリブデン添加酸化タングステンエレクトロクロミック薄膜はエレクトロクロミック窓を組み立てる重要なエレクトロクロミック層材料として、マグネトロンスパッタリング法によって製造することができる。具体的なスパッタリング手順は以下の通りである:

モリブデンドープWO3大面積エレクトロクロミックガラス

詳細については、

http://www.tungsten-powder.com/korean/tungsten-oxide.html

モリブデンドープWO3大面積エレクトロクロミックガラス

クリーニングしたFTO導電性ガラスを導電面が上向きのトレイに置き、3Mテープで固定した。FTO導電性ガラスを取り付けたトレイをターゲットとともに真空反応室に置き、スパッタリングを開始した。まず、大気状態でスパッタ室を真空引きし、スパッタ室の真空度が10^-1Paになるようにした。ガスをスパッタ室に充填し、Ar2は作動ガス、O2は反応ガスとして使用し、ガス流量調整つまみによって吸気量を所望の値に調整した。純アルゴンガスを用いて10分間予備スパッタリングし、ターゲット表面の汚染物を除去し、予備スパッタリング後にスパッタリングを開始した。直流スパッタリングにより酸化タングステンエレクトロクロミック薄膜を製造した。その中、スパッタリング技術のパラメータは以下の通りである:スパッタリングターゲットはモリブデン添加酸化タングステンターゲットである、基板はFTO導電性ガラスである、作動ガスはAr2、Ar2ガス流量は70sccm、反応ガスはO2である、O2ガス流量は1−4sccm、基板温度は室温、スパッタガス圧力は2.4Pa、スパッタ出力は60W、スパッタ時間は0.5h、動作電圧は300V、動作電流は0.2Aである。

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