WO3または三酸化タングステンは比較的色コントラストの低い陰極着色材であるため、酸化ニッケルなどの陽極着色材と複合電極相補エレクトロクロミック素子として組み立てる必要がある。ここで、酸化タングステン膜はエレクトロクロミック層として機能する。一方、酸化ニッケルは研究者の第一選択の陽極着色材料として、エレクトロクロミック層としてだけでなく、イオンメモリ層としても使用でき、デバイスの光変調範囲をさらに強化することができる。
詳細については、
http://www.tungsten-powder.com/japanese/tungsten-oxide.html
では、どのようにしてニッケル酸化膜を製造するのでしょうか。酸化ニッケル薄膜の製造方法は主にマグネトロンスパッタリング法、噴霧熱分解法、金属有機化学蒸着法、ゾル−ゲル法、パルスレーザ蒸着法、分子ビームエピタクシー技術を含む。これらの製造方法にはそれぞれ長所と短所がある。製造方法の違いは、酸化ニッケル薄膜の電気的、光学的、結晶方位、厚さ及び表面形態の違いをもたらす。したがって、調製されたエレクトロクロミック素子は異なるエレクトロクロミック特性を有する。
