ナノセシウムタングステン青銅、すなわちナノCsxWO3は、良好な近赤外遮蔽性能を持っているので、オフィスの断熱膜を製造するために使用することができ、そして得られた透明断熱膜の断熱性能が良い。低温水熱条件下でクエン酸を反応溶媒として、異なるセシウム含有量のCsxWO3（x=0.1、0.2、0.3）粉体を調製し、ポリビニルアルコール（PVA）を成膜剤として、ガラス表面にロールコーティング法でCsxWO3薄膜を調製した専門家がいる。
詳細については、次のページを参照してください。
http://cesium-tungsten-bronze.com/japanese/index.html
専門家たちは異なるセシウム含有量のCsxWO3薄膜の近赤外遮蔽性能と断熱性能を研究した。その結果、セシウムタングステン青銅薄膜の近赤外遮蔽性能と断熱効果はCsxWO3中のセシウム含有量の増加に伴い増強されることが明らかになった。その中で、Cs0.3WO3薄膜の近赤外遮蔽性能が最も良く、断熱性能が最も良く、空白ガラスと比べて、断熱温度差は13.5℃に達することができる。
