보고서에 따르면 일부 전문가들은 FTO 투명 전도성 유리에 두께가 다른 결정질 산화 텅스텐 막을 제조하기 위해 펄스 DC 반응성 마그네트론 스퍼터링 코팅 방법을 사용했다. 전문가 장치의 전기 발광 음극 전기 변색 층 전체 소색 착색 효율의 진폭이 가장 큰 영향, 산화 텅스텐은 적절한 막 두께를 선택한다 말한다.
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http://tungsten-oxide.com/korean/index.html
또한 제조 된 막은 단사 정계 구조를 가지고 있으며, 두께가 증가함에 따라 결정화도가 점차 증가하고 표면 거칠기가 점차적으로 감소한다고 전문가들은 또한 말했다. 입방정 WO2.92의 WO3, 격자 변형에 단사에서 착색 막 변경된 후, 격자 변형이 감소 제, 250 nm의 격자 변형, 두께 증가의 최소 막 두께를 막 두께를 증가 300 nm 필름 착색은 변형률이 크게 증가합니다. 전 필름의 다른 색이 균일 한 두께의 격자 변형의 변경 후의 표면 거칠기의 거칠기 전에 필름이 250 ㎚ 변색 최소 표면 거칠기에 착색 한 후, 제 감소된다. 동일한 구동 전압에서, 300 ㎚의 막 두께는하지 W5 + W6 +의 일부에, 차단으로 인해, 리튬 이온의 너무 큰 마이그레이션 발생 응력 페이딩 완전히 퇴색 작지 않은 진폭 착색 효율 동안 변색. 이 전기 변색은 막 두께가 약 250nm 일 때 최적이며 광 변조 진폭 및 색 변화 효율이 높습니다.
