WO3 나노 필름 배열막은 최근 몇 년 동안 광전자 재료 분야의 연구 이슈이다.이에 따라 고도로 질서정연한 WO3나노 구조물 배열막 제조에도 관심이 쏠린다.보도에 따르면 질서있는 나노배열막을 제조하는 상용방법에는 수열법, 템플릿법, 화학기상퇴적법, 열증발법 등이 포함된다.
자세한 내용은 다음을 참조하십시오.
http://www.tungsten-oxide.com/korean/index.html
그중 수열법은 반응조건이 온화하고 설비가 간단하며 원가가 낮고 대면적의 박막을 쉽게 제조할수 있는 특점이 있어 많은 연구자들의 환영을 받고있다.전문가들은 FTO 전도성 유리를 라이닝으로 수열 합성과 단소를 통해 WO3 나노 조각 배열막을 FTO 라이닝에 직접 합성하고 광전 화학전지와 염료 민화 태양전지에서의 응용을 연구했다.여기서 WO3 시드 레이어를 사전 제작할 필요가 없습니다.또 전문가들은 서로 다른 수열 합성 조건이 WO3 박막의 형태와 구조에 미치는 영향도 연구했다.그 결과 C2042-는 WO3 나노 필름 어레이의 형성에 중요한 구조적 가이드 역할을 하는 것으로 나타났다.
