什么是钨靶材？其又称为钨溅射靶材，是一种以纯钨粉为原材料的产品，外观为银白色，因有优异的物理性质和化学性质，而深受众多领域欢迎。
钨溅射靶材特点
1）纯度高，经过烧结锻打后的靶材纯度通常可以高于99.95%。一般而言，在其他条件不变情况下，靶材纯度纯度越高，所制成的镀膜电性能越好，则相应电路越不容易短路或损坏。
2）成本相对合理，采用粉末冶金直接压制成型的速度更快，能有效缩短生产周期，进而降低成本。
3）密度大，经过烧结锻打后的靶材密度可达到19.1g/cm3以上。
4）偏转力度高，利用超细纯钨粉末生产的靶材成品的成分与组织结构都较为均匀、一致性较好。
5）热化学稳定性良好，不易出现体积膨胀或缩收、与其他物质发生化学反应等现象。
6）电阻低，不会使电路产生不必要的能量。
此外，它还有高熔点、高弹性、低膨胀系数、低蒸气压、无毒、无放射性等特性。
钨溅射靶材生产工艺
一般采用粉末冶金方法制备。第一，将钨粉放在真空热处理炉中进行预脱气，后导入氢气，继续加热进行脱气；第二，将脱气后的钨粉通过真空热压完成一次烧结；第三，将一次烧结后的产品通过热等静压机完成二次烧结；第四，将二次烧结后的产品通过机械加工将整个表面进行磨削处理，即可得到产品。注意：1）钨粉的纯度要达99.999%以上、粒度在3.2‑4.2μm之间。
钨靶材用途
广泛应用于平面显示器、太阳能电池、集成电路、汽车玻璃、微电子、存储器、X-射线管、医疗设备、熔炼设备等产品中。
注意：靶材的纯度、密度、微观结构、内部质量、焊接质量、外观质量和几何尺寸等对镀膜好坏有着重要的影响。
