SiO2纳米晶-黄色氧化钨复合薄膜以无定形氧化钨作为基体，SiO2纳米晶均匀分布在无定形氧化钨中。有专家通过下述步骤制得在633nm处的光谱调制幅度为46％，着色时间为8s，褪色时间为4.3s的复合薄膜。
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SiO2纳米晶-黄色氧化钨复合薄膜的制备
步骤一：将0.3g SiO2纳米晶粉末超声分散溶于6mL二甲基甲酰胺，形成TiO2纳米晶的二甲基甲酰胺溶液。
步骤二：将1.5g偏钨酸铵加入步骤一所得SiO2纳米晶的二甲基甲酰胺溶液中，超声处理得到复合溶液。
步骤三：步骤二所得复合溶液中依次加入2mL乙醇，超声处理。
步骤四：利用旋涂仪将步骤三所得溶液旋涂在清洗后的ITO基板上。其中，旋涂转速为500r/min，匀胶时间5s；接着转速1000r/min，匀胶时间20s。
步骤五：将步骤四制得的湿膜先在空气气氛中热处理，热处理温度为350℃，保温时间为60min，制得SiO2纳米晶-黄色氧化钨复合薄膜。
