钨针的品质直接关系着扫描电子显微镜（STM）的探测能力。钨针尖的大小、形状和化学同一性不仅影响STM图像的分辨率和图像的形状，也影响测定的电子态。因此，钨针尖的制备显得尤为重要，理想的结果是获得具有特定纳米尺寸曲率半径的钨针尖。
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传统的制备STM探测钨针的方法一般采用机械剪针法、电化学刻蚀、电子或离子束轰击等方法。然而，这几种方法在纳米尺度，都无法可控地制备出特定尖端尺寸的探针。因而专家提出了一种新的制备方法，即在场离子显微镜平台上，在电化学刻蚀的基础上，利用场致刻蚀技术，实时地、可控地制备出特定纳米尺寸曲率半径的钨针尖。
