多孔氧化钨有望用于氢吸附。据报道，有研究人员通过惰性气体冷凝法合成主要由WO3构成的氧化钨，并通过石英晶体微天平技术研究了具有和不具有催化Pd涂层的多孔氧化钨纳米材料在室温下的氢吸附性能。
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结果显示，样品由低结晶度和高孔隙率的半非晶纳米材料组成。其中，研究人员在增加的H2压力（1000-7000Pa）下研究了有和没有Pd涂层的多孔氧化钨的H2吸收能力。在1160Pa达到1.2wt.%H2的最大值后，涂Pd的氧化钨的H2吸收能力持续下降。在3300Pa和6000Pa的Pd涂层氧化钨上进行了连续的氢化循环，以评估样品在此H2加载和卸载过程中的H2吸收性能，发现H2的吸收容量从约1降低至低于0.53wt.%的H2的值。这是通过15nm厚的Pd膜获得的参考H2的存储容量。由此可见，在室温连续的加氢循环下，Pd/氧化钨界面和亚层中水分子的形成会对氧化钨的H2吸收能力产生负面影响。
