WO3纳米片阵列薄膜是近年来光电材料领域的研究热点，因此，高度有序的WO3纳米结构阵列薄膜的制备也深受关注。专家表示，制备有序纳米结构阵列薄膜的常用方法有水热法、模板法、化学气相沉积法以及热蒸发法等。其中，水热法具有反应条件温和、设备简单、成本低廉且易于制备大面积薄膜等特点，因而受到众多研究者的青睐。
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http://www.tungsten-powder.com/chinese/tungsten_oxide.html
有专家以FTO导电玻璃为基底，无需预制WO3籽晶层，采用水热法合成并经煅烧处理直接在FTO基底上制得WO3纳米片阵列薄膜，并对其在光电化学池及染料敏化太阳能电池中的应用进行了研究。此外，专家们还考察了不同水热合成条件对产物形貌及结构的影响，结果表明，C2042-对纳米片阵列的形成具有重要的结构导向作用。
