光遮蔽体材料用纳米紫色氧化钨

光遮蔽体材料用纳米紫色氧化钨可以在工业回转炉内轻度还原APT制备得到(湿氢和高温条件下)。

APT在较高的温度下分解产生水蒸气、NH3, NH3在高温下可分解成N2和H2,H2可使APT轻度还原、分解产生W18O49相。由于NH3在分解后体积增加,可以将反应生成的大量水汽带走,但是NH3流量太大,炉内气氛的H2分压增加,导致产品中WO2相含量增加,从而影响产品质量。通过验证试验,可以得出紫色氧化钨生产的最佳工艺参数:温度在790~805摄氏度区间;给料速度为0.55kg/min;炉管转速为2.0r/min;NH3流量为0.7m3/h。

需要注意的是,要保证排气系统炉内气氛稳定,系统阻力过大,则产生水汽难以排出,导致产品湿度大、流动性差,甚至结炉。光遮蔽体材料用纳米紫色氧化钨图片
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