六氟化鎢(Tungsten Hexafluoride,WF6)是由過渡金屬鎢元素和活潑非金屬氟元素組成的一種無色氣體,是用于微電子學生産過程中鎢的化學蒸氣沉積的一種氣源,具有較大的密度、較强的腐蝕性和毒性等特點,主要應用于半導體工業的化學氣相沉積工藝中,以沉積鎢金屬。然而,當前的生産技術却很難生産出高純度WF6。
爲了製備出超高純度(99.9999%)且製造費用較低的六氟化鎢産品,專利號爲CN1281823A的研究者提出一種新的生産方法,具體步驟如下:
先將一定量的粗六氟化鎢引入一個蒸發過程,用以分離成爲一定量的含有揮發性雜質的WF6和一定量的非揮發性的金屬雜質;然後,將該一定量的含有揮發性雜質的WF6通過一個氣相吸附過程,用以分離成爲一定量的半粗WF6産品和一定量的作爲被吸附殘餘物的氟化氫;最後,將該一定量的半粗WF6送入一個UHP氣體鼓泡系統,用以分離爲非揮發的高純六氟化鎢産品。
值得一提的是,粗六氟化鎢一般是純度爲99%的WF6,且含有大于1ppmv的氟化氫。另外,UHP氣體鼓泡系統在溫度高于3℃,壓力大于0.5atm下操作,采用脉衝吹掃程序。
該生産技術的純化是基于蒸發、氣相活性吸附系統和鼓泡系統的結合。蒸發是爲了從粗六氟化鎢中除去非揮發性殘餘物。采用的氣相反應性吸附床是爲了從WF6中除去氟化氫和氟化矽雜質。采用的鼓泡系統是爲了從産品中除去揮發性雜質。
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