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| 作者：钨制品生产商、供应商-厦门中钨在线 文章来源：网络转载 更新时间：2015-10-21 11:10:08 |
WO3大孔阵列薄膜的电致变色性能
【中钨在线新闻网-钨新闻】
有PS球模板和无PS球模板制备的WO3薄膜在0.5MH2SO4溶液中的的循环伏安(CV)曲线如图3.16所示。电流的变化主要基于氢离子在薄膜中的嵌入与脱出:W03+xH++xe-<——>HxWO3。CV曲线中具有(I)和((II)两个小峰，这是由于两种不同的氢离子的嵌入所造成的:一种是吸附在WO3外表面或其孔洞内的水合氢离子，另一种是水溶液中的水合氢离子。各个样品的峰位没有明显的差异，但是电流值有一定的不同。在相同时间下沉积的薄膜中，无PS球模板的样品电流值比有PS球模板的样品稍大，这是由于单位面积上所承载的薄膜的质量不同所致。对薄膜进行计时电流法测试，测试在0.5MH2SO4中进行，方波电压为-0.5V(30s)和+0.5V(30s)。各个样品的着色态和褪色态在350至1000nm波长范围的透过光谱如图3.17所示，与电流一时间曲线相对应的在633nm处的原位光谱透过率如图3.18所示。300s和600s沉积的无PS球模板的样品，在633nm处的透过率调制幅度分别为20%和35%，而有PS球模板的样品则分别扩大为48%和52%对于响应时间，关于响应时间的定义，可以计算出各个薄膜样品的着色(tc)和褪色时间(t6，计算得到的数值已在图3.18标出。对于响应时间与离子的扩散路径以及离子和电子的扩散速率的依赖关系，在文献中已经多有讨论并给出了完整的解释，并指出了形貌控制对于获得较快的响应速度的重要意义。本实验中，有PS球模板的薄膜样品的响应速度几乎是无PS球模板的薄膜样品的2倍(即响应时间减半)。这一数值与文献报道的值(tc=3sandtb=1.3s)不相上下。
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