捷佳伟创与中大研发出国内首台量产型ZnO基MOCVD
近日，广东深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司，成功开发了国内首台专用于大规模高质量ZnO半导体透明导电薄膜材料生长的量产型MOCVD设备。
ZnO生长设备主要为MBE、MOCVD、溅射机和PLD等小型研究性设备，生产成本比较高，其中，采用MOCVD设备成膜速度快、大面积、均匀、多片一次生长、符合产业化的发展要求。但是，目前利用量产型MOCVD设备大规模生产ZnO透明电极的方法，在国内甚至是整个LED业界还是空白。
捷佳伟创称其与中山大学佛山研究院合作开发的量产型MOCVD设备，利用该设备制备的ZnO基透明导电薄膜可用于制作超高亮LED芯片的透明电极以增强出光效率，目前已有成套技术可规模生产制备封装后发光光效达到130lm/w以上大功率高亮度照明级的GaN基外延片和各种尺寸的发光二极管芯片，应用于下游LED室内外照明产品，将有助于LED制造企业提高产品质量、降低产品价格，对LED产业示范推广工程的顺利开展以及LED加速进入民用照明具有重大意义。
目前关于ZnO的专利主要集中在ZnO透明导电薄膜在光电子器件和太阳能电池中的应用领域。ZnO作为LED的透明电极，大多数专利集中在通过表面处理和工艺技术来改良欧姆接触界面性能和通过外延生长改良p型材料表面以提高隧穿几率这两方面，但是MOCVD制备大规模ZnO材料的专利还比较少。
捷佳伟创公司是一家光伏设备及绿色能源产业专用设备制造商，一直关注国内外MOCVD技术发展，部分参与项目研发人员曾从事过较长时间的十五“863”攻关项目GaN-MOCVD设备6片机的研究，承担了其心脏部分反应器的攻关研制，获得了中试验证，并受到了科技部领导的鼓励。为了拓展公司在LED照明等光电行业方面的应用市场，捷佳伟创不停地在寻找光电方面的合作伙伴。
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